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硒化鋅（ZnSe）窗口鏡片在鍍膜后產生的雜質及合適的清洗方法如下：

鍍膜后產生的雜質：

1、有機污染物：

來源：鍍膜過程中的光刻膠殘留、油脂、指紋或環境有機物。

表現：表面油膜、斑點或霧狀殘留。

2、無機顆粒：

來源：鍍膜腔體內的粉塵、靶材濺射顆粒或搬運過程中的塵埃。

表現：附著在表面的微小顆?；騽澓?。

3、水漬或溶劑殘留：

來源：清洗過程中純水或溶劑未完全干燥，留下痕跡。

合適清洗方法：威固特VGT-1509FH光學超聲波清洗機

1、非接觸清洗，避免表面損傷：

硒化鋅是一種脆性較高的紅外光學材料，機械擦拭易導致劃痕或表面損傷。超聲波清洗通過高頻振動產生的空化效應，實現無接觸清洗，避免物理摩擦對鏡片的損害。

尤其適合ZnSe表面鍍膜（如增透膜）的保護，防止膜層脫落。

2、高效去除亞微米級污染物：

超聲波的空化作用可產生微米級氣泡爆破，能有效去除ZnSe表面的顆粒污染物（如拋光殘留物、灰塵）和有機污染物（如油脂、指紋）。

對于復雜結構（如鏡片邊緣或凹槽），超聲波能實現全方位清潔，避免手工清洗的盲區。

3、可控的清洗參數適配材料特性：

ZnSe對溫度和化學溶劑敏感（如易被酸性或堿性溶液腐蝕）。超聲波清洗可精確控制。

頻率（如40KHZ-100KHZ）：高頻適合精密清洗，低頻用于頑固污染物。

溫度（通常≤50℃）：避免高溫導致ZnSe熱應力或鍍膜失效。

清洗劑選擇：使用中性或專用光學清洗劑（如無水乙醇、去離子水），避免材料腐蝕。

4、均勻清洗、避免二次污染：

超聲波在清洗槽內分布均勻，確保ZnSe鏡片表面各部位清洗效果一致，避免人工操作的不穩定性。

清洗后可通過內置的多級漂洗和干燥系統（如氮氣吹干）減少水漬殘留，降低二次污染風險。

5、自動化與重復性

集成自動化流程（如機械臂搬運）適合批量處理，提高效率的同時保證每片ZnSe鏡片的清洗質量一致，這對高精度光學元件至關重要。

6、使用注意事項：

功率控制：過高的超聲波功率可能導致ZnSe表面微崩（空化沖擊），需根據鏡片厚度和鍍膜情況優化。

溶劑兼容性：避免使用含硫、氯的溶劑，防止與ZnSe發生化學反應。

威固特生產制作的光學超聲波清洗機的結構設計（如頻率可調、溫控系統、多槽流程）使其在清洗硒化鋅鏡片時兼具安全性、高效性和一致性，特別適合紅外光學元件的高標準清潔需求。